A multiscale modeling method combining PROLITH lithography simulation with self-consistent field theory (SCFT) computation of the block copolymer directed self-sssembly (DSA) is described.
ブロックコポリマー方向性の自己集合(DSA)の自己無撞着場理論(SCFT)計算と、PROLITH石版印刷シミュレーションを組み合わせた多スケールのモデル化法を説明する。
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This method utilizes PROLITH to predict the shape of a lithographic feature as function of process conditions.
この方法ではPROLITHを利用し、過程状態の機能としての石版印刷形状を予測する。

 

The results of that calculation are used as input for SCFT simulation to predict the distribution of the matrix and etchable blocks of DSA polymers such as PS-b-PDMS or PS-b-PMMA.
PS-b-PDMSまたはPS-b-PMMAなどのDSAポリマーのエッチング可能なブロックとマトリックスの分布を予測するため、計算結果をSCFTシミュレーションの入力情報として使用した。

 

The proposed method is applied to simple cases like a rectangular trench and a cylindrical contact hole.
直方形トレンチや円筒コンタクトホールのようなシンプルなものに提案方法を適用した。

 

The self-assembly of various polymers is investigated as a function of their compositions.
種々のポリマーの自己集合に関しては、それらを組成物の関数として調査した。

 

To investigate polymer directed self-assembly by using lithography simulation and field theory computation techniques
石版印刷シミュレーションと場理論計算技術を用いてポリマー性の自己集合を調査する

 

Combining Physical Resist Modeling and Self-Consistent Field Theory for Pattern Simulation in Directed Self-Assembly
方向付けられた自己集合のパターンシミュレーションを目的とした物理的抵抗モデル化法と自己無撞着場の組み合わせ

 

To use a combination of physical resist modeling and self-consistent field theory (SCFT) for simulating the distribution of matrix and etchable blocks of directed self-assembly (DSA) polymers
方向付けられた自己集合(DSA)ポリマーのエッチング可能なブロックとマトリックスの分布をシミュレートするため、物理的抵抗モデル化法と自己無撞着理論(SCFT)の組み合わせを用いること

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